Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization

Warning

This publication doesn't include Faculty of Arts. It includes Faculty of Science. Official publication website can be found on muni.cz.

Authors	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Year of publication	2012
Type	Article in Periodical
Magazine / Source	Chemické listy
MU Faculty or unit	Faculty of Science
Citation
Field	Plasma physics
Keywords	reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
Description	The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.
Related projects:	Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev