Variable-angle spectroscopic ellipsometry of considerably non-uniform thin films

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Víceúhlová spektroskopická elipsometrie značně ne-uniformních tenkých vrstev
Autoři

NEČAS David OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel

Rok publikování 2011
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Optics
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://iopscience.iop.org/2040-8986/13/8/085705/
Doi http://dx.doi.org/10.1088/2040-8978/13/8/085705
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova ellipsometry; thin films; non-uniformity
Popis A theoretical approach for including considerable thickness non-uniformity of thin films into the formulae employed within variable-angle spectroscopic ellipsometry is presented. It is based on a combination of the efficient formulae derived for the thickness distribution density corresponding to a wedge-shaped non-uniformity with dependences of the mean thickness and root mean square (rms) of thickness differences on the angle of incidence that take into account the real non-uniformity of the shape. These dependences are derived using momentum expansion of the thickness distribution density. The derived formulae are tested by means of numerical analysis. An application of this approach is illustrated using the optical characterization of a selected sample of non-uniform SiOxCyHz thin films using phase-modulated ellipsometry.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.