X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	LÍBEZNÝ Milan HOLÝ Václav KUBĚNA Josef
Rok publikování	1993
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Thin Solid Films
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	X-ray diffraction and reflectance; raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Popis	X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Související projekty:	Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur