Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

KRUMPOLEC Richard ČERNÁK Mirko ZELENÁK František

Rok publikování 2022
Druh Patent
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Vydavatel Úřad průmyslového vlastnictví
Stát vydání Česká republika
Číslo patentu 309452
www Patentový spis - Udělený patent
Popis Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce-exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.