PtSi formation on silicon substrate

Varování

Publikace nespadá pod Filozofickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Silicidace platiny na Si substrátu
Autoři	BOCHNÍČEK Zdeněk ČECHAL Jan ŠIKOLA Tomáš KRČMÁŘ Jan
Rok publikování	2004
Druh	Článek ve sborníku
Konference	22nd European Crystallographic Meeting, Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	PtSi; silicide; x-ray diffraction;
Popis	Silicidace platiny na Si substrátu byla sledována metodou rtg difrakce při žíhání in-situ. Z kinetiky vzniku vrstev Pt2Si a PtSi byly za použití Kissingerovy analýzy určeny aktivační energie obou transformací. Bylo ukázáno, že silicidace je silně závislá na přítomnosti dusíku v atmosféře při žíhání.
Související projekty:	Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur